ერლანგენში დაფუძნებული Fraunhofer IISB (ინტეგრირებული სისტემებისა და მოწყობილობების ტექნოლოგიების ინსტიტუტი) და ვეტენბერგში დაფუძნებული მიკროტალღური და რადიოსიხშირული პლაზმური სისტემების მწარმოებელი PVA TePla AG ერთობლივ ლაბორატორიაში საკუთარ ექსპერტიზას აერთიანებენ ალუმინის ნიტრიდის (AlN) კრისტალების წარმოებისთვის.
ევროპაში პირველად, ეს პარტნიორობა კვლევისა და განვითარების მიზნებისთვის 2 ინჩის დიამეტრის მონოკრისტალური AlN სუბსტრატების მცირე პარტიებით წარმოების სამრეწველო მხარდაჭერის საშუალებას იძლევა. ეს მნიშვნელოვნად აუმჯობესებს AlN სუბსტრატების ხელმისაწვდომობას ევროპაში, რაც თავის მხრივ აჩქარებს AlN-ზე დაფუძნებული მოწყობილობებისა და სისტემების განვითარებას და მათ სამრეწველო გამოყენებაში გადასვლას.
ალუმინის ნიტრიდი ერთ-ერთი ყველაზე პერსპექტიული მასალაა მაღალი ხარისხის ელექტრონიკის შემდეგი თაობისთვის. როგორც ულტრაფართოზოლოვანი (UWBG) ნახევარგამტარი, AlN ახალ შესაძლებლობებს ხსნის ფოტონიკაში, ენერგეტიკულ ელექტრონიკაში, მაღალი სიხშირის ელექტრონიკასა და ექსტრემალურ პირობებში მომუშავე ელექტრონიკაში. დღეისათვის, მაღალი ხარისხის, დიდი ფართობის და ეკონომიური AlN სუბსტრატების დეფიციტი აფერხებს AlN-ზე დაფუძნებული ელექტრონული სისტემების განვითარებას.
„ერთობლივი ლაბორატორიის მეშვეობით ჩვენ ვქმნით საფუძველს ევროპიდან AlN სუბსტრატების საიმედო მიწოდების უზრუნველსაყოფად, რითაც ახალ პერსპექტივებს ვხსნით მაღალი ხარისხის AlN მოწყობილობების შემდეგი თაობისთვის“, - ამბობს დოქტორი სვენ ბესენდერფერი, ნიტრიდური მასალების ჯგუფის ხელმძღვანელი და Fraunhofer IISB-ში AlN მასალების შემუშავებაზე პასუხისმგებელი. „PVA TePla-სთან ერთად, ჩვენ ვახდენთ ჩვენი ექსპერტიზის შეტანას სამრეწველო კრისტალების ზრდაში, რითაც ვქმნით წინაპირობებს ბეტონის გამოყენებაში გადასვლისთვის“.
დადასტურებული აღჭურვილობის ტექნოლოგია შეესაბამება საკუთრებაში არსებულ პროცესების ცოდნას
ერთობლივ ლაბორატორიაში, Fraunhofer IISB იყენებს საკუთარ PVT (ფიზიკური ორთქლის ტრანსპორტირების) პროცესის ტექნოლოგიას 2 დიუმიანი AlN მოცულობითი კრისტალების წარმოებისთვის. ამ პროცესში, AlN ფხვნილი ორთქლდება ჭურჭელში 2000°C-ზე გაცილებით მაღალ ტემპერატურაზე და ილექება სათესლე კრისტალზე. PVA TePla ამ მიზნით უზრუნველყოფს PVT სისტემებს, რომლებიც უკვე გამოიყენება მთელ მსოფლიოში 8 დიუმიანი დიამეტრის სილიციუმის კარბიდის (SiC) კრისტალებისთვის და ამჟამად სპეციალურად ადაპტირებულია 2 დიუმიანი AlN კრისტალების ზრდისთვის.
Fraunhofer IISB-ის მიერ შეტანილი პროცესის ექსპერტიზის წყალობით, PVA TePla-ს გუნდმა სწრაფად შეძლო შედარებითი ხარისხის AlN კრისტალების წარმოება საკუთარ საწარმოებში. ერთობლივი ლაბორატორია ფოკუსირებულია 2 დიუმიანი AlN კრისტალების სტაბილურ მცირე პარტიულ წარმოებაზე. ამჟამად წარმოება თანდათან იზრდება პროცესის სტაბილურობის, რეპროდუცირებადობის, მოსავლიანობისა და ხარჯების სტრუქტურების სისტემატური ოპტიმიზაციის მიზნით.
„ალუმინის ნიტრიდით ჩვენ აქტიურად ვქმნით SiC-ის შემდეგ ტექნოლოგიების შემდეგ ახალ თაობას“, - ამბობს დოქტორი იან პფაიფერი, PVA TePla-ს კვლევისა და განვითარების ვიცე-პრეზიდენტი. „ერთობლივი ლაბორატორიის მეშვეობით ჩვენ შეგვიძლია პირდაპირ გავაერთიანოთ ჩვენი აღჭურვილობის ექსპერტიზა Fraunhofer IISB-ის პროცესის ცოდნასთან, რაც საშუალებას მოგვცემს, ადრეულ ეტაპზე შევთავაზოთ ბაზარზე ორიენტირებული გადაწყვეტილებები ჩვენს გლობალურ მომხმარებლებს“, - დასძენს ის. „ჩვენი საერთო მიზანია, შესაფერისი სუბსტრატების მეშვეობით, სტიმულირება გავუკეთოთ ბაზრის განვითარებას AlN სექტორში და მხარი დავუჭიროთ იმ კომპანიებს, რომლებიც ცდილობენ ამ სფეროში ტექნოლოგიურ პარტნიორებად შესვლას სწორი აღჭურვილობითა და შესაბამისი პროცესის ექსპერტიზით“.
ევროპული ტექნოლოგიური სუვერენიტეტის გაძლიერება სამრეწველო მასშტაბირების გზით
ერთობლივ ლაბორატორიაში წარმოებული AlN კრისტალები შემდგომ გადამუშავდება Fraunhofer IISB-ში ეპი-მზად AlN სუბსტრატებად და ერლანგენში დაფუძნებული კვლევითი და პროდუქტის განვითარების ფირმა LZE GmbH-ის მეშვეობით, სპეციალურად გადადის სამრეწველო განვითარებისა და მასშტაბირების პროცესებში. „ევროპის ნახევარგამტარული სუვერენიტეტისთვის უმნიშვნელოვანესია, რომ ახალი ძირითადი მასალები არა მხოლოდ შემუშავდეს, არამედ სწრაფად გადავიდეს სამრეწველო გამოყენებასა და მასშტაბირებად ღირებულების შექმნაში“, - ამბობს LZE-ს მმართველი დირექტორი, დოქტორი კრისტიან ფორსტერი. „უახლესი ტექნოლოგიების ბაზრით, LZE GmbH კომპანიებსა და კვლევით ინსტიტუტებს სთავაზობს გლობალურად უნიკალურ და ღია წვდომას AlN სუბსტრატებზე. ამ გზით, ჩვენ ხელს ვუწყობთ იმის უზრუნველყოფას, რომ დიდი მოცულობის სამრეწველო ბაზრებისთვის პერსპექტიული გამოყენება უფრო სწრაფად გამოვიდეს ბაზარზე“.
გამოქვეყნების დრო: 2026 წლის 20 ივლისი